カールツァイスの電子ビームによるマスク修正ツールMeRiT™ MGは、現在そして将来の最先端マスク技術が求めるマスク修正の条件をすべて満たしています。また、MeRiT™ MGは現在と将来のノードに向け、最高の精度を提供します。
最先端マスクの要求
高精度なエッチングとデポジション
65nm以下のパターンへの対応
低トランスミッションロス
高分解能・非破壊による欠陥レビュー
マルチプロセス対応
あらゆる露光時術とマスク材料への対応：ArF、F2、EUV、
 EPL、EEPL、S-FIL
ハイスループット
|  アプリケーション
メリット
原理
ソフトウェア
システムセットアップ
テクニカルデータ |