Upgrades

  • Elektronenmikroskope

    • Vac ECO Quiet Mode
    • Cartesian-Stepper-Stage-2
    • Navigation Camera
    • UniGIS
    • Ion-Sculptor

Vac ECO Quiet Mode

Geringere Geräuschemission und geringerer Energieverbrauch

Mit dem ZEISS Vac ECO Quiet Mode und einem Vakuumbehälter wird die Vorpumpe automatisch abgeschaltet, wenn ein werkseitig voreingestelltes Vakuumniveau erreicht ist. Über den Vakuumbehälter kann das System viele Stunden ohne Einsatz der Vorpumpe laufen. So sinken sowohl der Geräuschpegel als auch der Energieverbrauch.

Vorteile:

  • Komfortablere Anwendung
  • High Definition Imaging (HDI)
  • Energieeinsparungen

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Cartesian-Stepper-Stage-2

Nachrüstung

Systeme:

  • EVO10
  • EVO15
  • EVO25
  • Σigma,
  • Sigma 300
  • Sigma 360 (kein Sigma 5x0

Mehr Informationen zur Cartesian-Stepper-Stage-2

Navigation Camera

Einfach, schnell, komfortabel

GeminiSEM, Crossbeam (nicht Crossbeam 340), Sigma, EVO

Vorteile:
Einfache und schnelle Navigation auf der Probe

  • Interessante Stellen lassen sich direkt auf dem Bild markieren
  • Schnelleres und gezielteres Auffinden von Bereichen in der Probe

Farbiges Overlay

  • Foto der Probenoberfläche dient als Übersichtskarte
  • Overlay ist mit dem Tischkoordinatensystem verknüpft
  • Erleichtert die Navigation im SEM-Bild

Komfortable Bedienung

  • Direkte Steuerung der Kamerafunktionen über die SmartSEM-Software

Mehr Informationen zur Navigation Camera

UniGIS

Materialaufdampfung mit deutlich höherer Leistung

ZEISS UniGIS (GIS = Gasinjektionssystem) ist ein neues Einzelgasinjektionssystem für die ionen- oder elektronenstrahlinduzierte Aufdampfung (IBID/EBID) von Vorläufern wie Platin, Wolfram oder Kohlenstoff mit FIB-SEM-Systemen von ZEISS.

Vorteile:

  • Prozessstabilität
  • Komfortable Bedienung
  • Zuverlässige Aufdampfung

Mehr Informationen zu UniGIS

Ion Sculptor

Neue Art der FIB-Bearbeitung

Die Ion-Sculptor FIB-Säule eröffnet eine völlig neue Art der FIB-Verarbeitung. Die Minimierung von Probenschäden führt zu maximaler Probenqualität. Anwendungen können schneller durchgeführt werden.

  • Deutlich schnellerer FIB-Aperturwechsler
  • Stabilere Emitterbedingungen
  • Verbesserte Low-kV-Leistung

Mehr Informationen zur Ion-Sculptor FIB-Säule