开发工程师

最新一代极紫外（EUV）光刻系统重达 180 多吨，由 10 万多个独立部件构成，并通过数万颗螺丝稳固连接。此外，该系统还配备超过一千多条不同线缆、数百米软管管路，以及其核心部件：EUV 反射镜。运行时，该系统能够生产高性能微芯片，在数平方厘米的芯片上集成超过 570 亿个晶体管。

但这一切的前提是，所有部件、螺丝、线缆，尤其是反射镜，都必须完美协调且精准运行。这无疑是一项艰巨的任务， 却仿佛专为 Camila 量身定制：作为开发工程师，她负责测试极紫外（EUV）光刻系统中光学元件之间的协同作用——这一角色在全球数字化进程中至关重要。最终，这类 EUV 光刻系统通过波长为 13.5 纳米的极紫外（EUV）光照射涂有光刻胶的硅片，用于制造先进的微芯片， 由此形成的半导体纳米结构比人的头发丝细 5000 倍。

Camila 在求学期间首次与蔡司建立了联系。“这段经历非常宝贵！我能在学习之余深入了解一家工业企业的运作方式。在此期间，我参观了研发部门、实验室和各类生产线。当然也问了很多问题。数不清的问题！” 她笑着回忆道。在学习期间，她专注于机器人安全系统的研究， 成绩斐然，甚至在毕业前就收到了工作邀约。自 2021 年 3 月起，Camila 加入蔡司半导体制造技术业务部门，在一个 17 人的团队中担任机电一体化与质量认证开发工程师。

她的团队负责在投影光学集成方面开发动态质量认证体系。或者更简单地说：Camila 和她的同事负责评估极紫外（EUV）光学元件的功能。他们从各个制造部门接收预组装的模块，这些模块包含反射镜、执行器和传感器， 然后，他们测试各元件间的交互性能：通过特定方式移动反射镜，将生成的信号值与参考值进行比对。

“虽然我是团队里的新人，但大家从一开始就积极让我参与项目。第二周我就独立承担了第一项任务——开发一个图形用户界面，用于显示反射镜的精确位置和温度， 同时还要能向反射镜发送指令并更改各种参数。”

Camila 主要在后台办公室工作，但也会去制造部门和洁净室。这是一次独特的体验：“在这里，数据被转化为现实。我能直观看到并感受到自己工作的意义， 以及有多少人在同一项目中与我并肩奋斗。我一次又一次惊叹于系统构造的复杂性——如此多的线缆、冷却管路和传感器被集成到如此狭小的空间内。”