Illustration générée par IA d'un chercheur utilisant le microscope FIB-SEM ZEISS Crossbeam 750 pour effectuer des tâches d'imagerie et de préparation des échantillons.
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FIB-SEM ZEISS Crossbeam 750

FIB-SEM de précision avec contrôle en temps réel des points terminaux pour des flux de tâches fiables et reproductibles

conçu pour offrir clarté et précision dans la préparation de lamelles TEM, la tomographie en 3D et la nanofabrication, ZEISS Crossbeam 750 répond aux exigences de flux de tâches avancés dans le domaine de la recherches sur les semi-conducteurs et les matériaux. Doté d'optiques Gemini 4 et de la technologie High Dynamic Range (HDR) Mill + SEM, il offre une imagerie de haute résolution en direct pendant la phase d'usinage, ce qui permet un contrôle fiable des points terminaux et une préparation reproductible de lamelles inférieures à 20 nm, même pour les architectures plus complexes de certains dispositifs et les échantillons les plus exigeants.

  • Des performances d'imagerie sans commune mesure

    Les optiques Gemini 4 apportent une visibilité en haute résolution pendant la phase d'usinage.

  • Clarté en temps réel pendant l'usinage

    HDR Mill + SEM permet d'obtenir une imagerie en temps réel à n'importe quel angle d'inclinaison de l'échantillon pour un contrôle fiable du point terminal.

  • Préparation précise de lamelles inférieures à 20 nm

    Obtenez des lamelles ultra minces avec une précision reproductible.

  • Reproductibilité fiable

    Les flux de tâches basés sur des recettes et la fonction de connexion assurent l'uniformité des résultats entre les échantillons et les opérateurs.

ZEISS Crossbeam 750 FIB-SEM microscope system used for high-resolution imaging and precise sample preparation.

En quoi se distingue Crossbeam 750

Crossbeam 750 est équipé du nouvel objectif Gemini 4, qui améliore les performances d'imagerie et la stabilité pendant l'usinage des échantillons. Combiné à HDR Mill + SEM, il apporte une visibilité en direct à haute résolution qui permet de visualiser des caractéristiques dissimulées et des interfaces fragiles à mesure qu'elles sont exposées. Ces informations en temps réel donnent à l'utilisateur la possibilité de contrôler en toute confiance les points terminaux, de protéger les structures critiques et d'obtenir une préparation précise des lamelles inférieures à 20 nm sans avoir à les retravailler.

Illustration of focused ion beam milling used to prepare thin TEM lamellae for analysis with the ZEISS Crossbeam 750 FIB-SEM.

Principales caractéristiques

  • Optique Gemini 4 : un objectif sans champ pour des performances d'imagerie sans commune mesure, y compris pendant l'étape d'usinage
  • Obtenez des lamelles ultra minces inférieures à 20 nm grâce aux corrections par FIB et MEB en direct pour une précision maximale.
  • La finition FIB à basse énergie minimise l'amorphisation et préserve les détails les plus fins.
  • Traitement par lots : flux de tâches basés sur des recettes pour une préparation multi-échantillons et multi-ROI
Illustration of live SEM monitoring during FIB milling for precise endpoint control and TEM lamella preparation.

Préparation intégrée de lamelles TEM avec commande d'imagerie en direct

Crossbeam 750 permet une préparation prédéterminée des lamelles en combinant l'objectif Gemini 4 sans champ à l'imagerie MEB en continu pendant l'usinage. L'imagerie à haute résolution permet aux utilisateurs de contrôler les interfaces en temps réel, d'aligner avec précision les plans d'usinage et d'affiner les réglages avant que les matériaux sensibles ne soient enlevés. La technologie HDR Mill + SEM permet de conserver la visibilité sur des caractéristiques enfouies durant toute l'étape d'amincissement, ce qui favorise le contrôle fiable du point terminal et la préparation reproductible des lamelles inférieures à 20 nm pour les structures complexes des semi-conducteurs, comme les ailettes, les trous de liaison et les piles de grille.

Illustration of ZEISS software interface used with Crossbeam 750 for automated FIB-SEM workflows and 3D image analysis.

Flux de tâches logiciels conçus pour la précision propre à Crossbeam 750

Le logiciel pour microscope électronique ZEISS ZEN core EM intègre de manière fluide les fonctions d'acquisition, de commande et d'analyse pour les flux de tâches les plus exigeants du Crossbeam 750. ZEN simplifie les recettes automatisées, l'exécution par lots et les fonctionnements synchronisés MEB/FIB. Pour l'analyse en aval, la suite ZEISS arivis perfectionne encore davantage les fonctionnalités d'analyse d'images évolutive et assistée par l'intelligence artificielle. arivis Pro permet d'obtenir une visualisation multidimensionnelle flexible et des pipelines de segmentation ; arivis Hub accélère et traite par lots les gros volumes ; et arivis Cloud propose un entraînement de modèles par IA basé sur le cloud en vue d'automatiser et de faire évoluer les analyses avancées sans recourir au codage. Ensemble, ces outils améliorent la nanofabrication, l'imagerie de vastes surfaces et les flux de tâches corrélatifs, avec des résultats reproductibles et de qualité supérieure.

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Recherche en matériaux

  • Coupes transversales propres pour la caractérisation de matériaux en 3D par imagerie, traitement FIB et analyse
  • Précision de l'amincissement pour l'imagerie MET à haute résolution de structures complexes à l'échelle micro et nanométrique
  • La finition à faible impact préserve les caractéristiques nanométriques des matériaux, tels que les métaux, les céramiques et les polymères
Tranche XY d'un ensemble de données de tomographie 3D SRAM FinFET de 3 nm montrant la couche Metal 3, imagée avec le FIB-SEM ZEISS Crossbeam 750.

Tranche XY d'un ensemble de données de tomographie 3D SRAM FinFET de 3 nm montrant la couche Metal 3, imagée avec le FIB-SEM ZEISS Crossbeam 750.

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Systèmes électroniques et semi-conducteurs

  • Définition exacte du point terminal pour les piles de transistor stacks, les trous de liaison et les interconnexions dissimulées
  • Les lamelles inférieures à 20 nm permettent une analyse avancée des nœuds par MET et une analyse des défaillances.
  • Le polissage à faible voltage protège les couches et interfaces fragiles des dispositifs et permet d'obtenir des surfaces qualifiées pour la métrologie.
Reconstruction FIB-SEM en 3D du nématode C. elegans montrant son anatomie interne à une résolution nanométrique.

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Imagerie en sciences de la vie et biologie

  • Capturez la microstructure réelle à l'aide de l'imagerie à faible voltage.
  • Ciblez des structures spécifiques, par exemple les membranes, les tissus et les interfaces biomatérielles, grâce à l'usinage guidé par MEB.
  • Produisez des lamelles pour la cryo-microscopie avec une altération minimale grâce à l'amincissement à basse énergie.

Téléchargements

  • ZEISS Crossbeam 750

    Deliver first-time-right sample preparation for even the most challenging targets

    3 MB


Services et assistance

Une expertise dans le domaine de la tomographie haute précision et à grande échelle

ZEISS propose aux utilisateur de Crossbeam 750 son expertise en matière de services et d'applications dans le domaine spécifique de la tomographie FIB-SEM avancée à haut rendement. Des équipes d'assistance dédiées travaillent en étroite collaboration avec nos clients afin d'optimiser les performances, les stratégies d'automatisation et la fiabilité du système à long terme. La maintenance proactive, la surveillance à distance et les conseils d'experts contribuent à optimiser la disponibilité du système et à assurer des résultats constants à grande échelle.

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FAQ

  • ZEISS Crossbeam 750 est équipé du nouvel objectif Gemini 4 sans champ qui améliore les performances d'imagerie et la stabilité pendant l'usinage des échantillons. Cette particularité favorise un contrôle précis des flux de tâches exigeants, tels que la préparation de lamelles TEM inférieures à 20 nm, la tomographie prédéterminée en 3D et l'analyse avancée des semi-conducteurs. Grâce à la technologie HDR Mill + SEM, il offre une imagerie en haute résolution et en direct pendant l'étape d'usinage, ce qui est particulièrement appréciable pour les flux de tâches nécessitant une définition précise des points terminaux et la protection des structures critiques de certains dispositifs.

  • L'objectif Gemini 4 assorti de la technologie HDR Mill + SEM assurent l'imagerie continue en haute résolution au microscope électronique à balayage pendant l'usinage. Les utilisateurs peuvent ainsi surveiller en temps réel les caractéristiques dissimulées et les interfaces sensibles, ajuster les plans d'usinage sans interrompre le processus et contrôler avec précision les points terminaux pour la préparation de lamelles inférieures à 20 nm.

  • L'imagerie continue est essentielle pour la précision de l'alignement et les réglages en temps réel durant la préparation des lamelles. Elle réduit le besoin de retoucher l'échantillon, améliore le rendement et assure des résultats uniformes pour les lamelles ultra minces, en particulier dans les architectures complexes, telles que les piles de transistors, les trous de liaison et les grilles.

  • Crossbeam 750 utilise la colonne à FIB Ion-sculptor jusqu'à la finition au FIB à 500 V, ce qui réduit l'amorphisation et préserve les détails structurels fins. La préparation fiable des échantillons fragiles est assurée, y compris pour les matériaux sensibles aux faisceaux, tels que les couches minces, les polymères et les structures de semi-conducteurs complexes.

  • Oui, Crossbeam 750 est optimisé pour les matériaux sensibles aux faisceaux. La combinaison de l'imagerie MEB à faible voltage et l'usinage FIB à basse énergie minimise les impacts et préserve les caractéristiques nanométriques, ce qui permet de traiter de manière adéquate les échantillons fragiles, tels que les couches minces, les tissus biologiques et les interfaces semi-conductrices.

  • Crossbeam 750 offre une grande précision dans le contrôle des points terminaux et la préparation des lamelles inférieures à 20 nm, ce qui permet une analysée MET avancée des nœuds et un diagnostic amélioré des défaillances. Le polissage à faible voltage protège les couches et les interfaces fragiles des dispositifs tout en qualifiant les surfaces pour la métrologie pour la caractérisation précise des piles de transistors, des trous de liaison et des interconnexions.

  • Crossbeam 750 offre une coupe transversale propre, un amincissement précis et une finition à faible impact pour l'imagerie MET à haute résolution de structures complexes à l'échelle micro et nanométrique. Ce système est idéal pour les matériaux comme les métaux, les céramiques et les polymères, car il préserve les caractéristiques nanométriques pour une caractérisation en 3D et une analyse fiable.

  • Oui. Crossbeam 750 prend en charge l'usinage guidé par MEB pour les échantillons biologiques, ce qui permet de réaliser une préparation ciblée des membranes, tissus et interfaces biomatérielles. L'amincissement à basse énergie réalisé dans des conditions cryogéniques minimise l'impact sur l'échantillon et préserve la qualité de la lamelle, permettant aux chercheurs de capturer la véritable microstructure à l'aide de l'imagerie à faible voltage.

  • Le logiciel pour microscope électronique ZEISS ZEN core EM intègre étroitement les fonctions d'acquisition, de commande et d'analyse pour les flux de tâches du Crossbeam 750. ZEN core prend en charge l'automatisation basée sur des recettes, le traitement par lots et la synchronisation des opérations MEB/FIB, ce qui favorise l'uniformité des résultats entre les utilisateurs et les échantillons. De plus, l'écosystème ZEISS arivis propose une analyse évolutive assistée par l'intelligence artificielle de grand ensembles de données, afin de faciliter l'interprétation, la documentation et les flux de tâches en aval.