结构化的金片,作为等离子体效应基础研究的一部分。观察视野47.64 µm,蔡司GeminiSEM 560。图像由德国斯图加特大学第四物理研究所和应用量子技术中心提供。
用于纳米材料和纳米科学的显微镜应用

光子学

利用亚10 nm级制造能力、高分辨率和低电压成像帮助您推进纳米光子学研究

欧盟委员会网站宣称:“我们即将迈入新光子时代。”鉴于光子学被视为欧洲“关键使能技术”之一,这种说法不足为奇。不仅如此,该领域中的众多突破性成就改变了我们的生活方式。

新光子时代

随着摩尔定律接近极限,未来纳米级器件的制造面临着更大的挑战。由于量子力学隧穿等效应,科学家们无法进一步缩小这些器件的尺寸。相反,通过研究垂直堆叠晶体管(如3D NAND)等不同材料和技术,可以为推进这些应用发展提供所需的处理能力。  

用于光子学应用的纳米材料采用薄膜、纳米线、量子点和其他低维结构的形式。这些材料的光学特性取决于其确切大小、尺寸和结晶度。例如,单晶材料通常会表现出比多晶材料更低的等离子体损失。这推动了等离子体单晶金属器件的制造发展。 

进一步推动光子学发展的专用工具必不可少

研究用于光子学应用的低维材料的结构和理化特性需要专用工具。此外,在制造过程中要确保高空间精度。但标准SEM系统存在局限性,例如低电压下的分辨率不佳,以及荷电效应和光束致样品损坏。在使用标准镓离子FIB制造结构时,会形成约50 nm量级的特征尺寸,但是这一尺寸太大,无法利用量子限制效应。 

蔡司工作流可助您一臂之力

为了解决这些挑战,您不仅需要能够在低电压下提供高性能、亚10 nm级成像的工具,还需要能够以相同的长度沉积或制造结构,以利用量子限制效应。蔡司显微镜提供强大的关联工作流程,可帮助您以高保真度对亚10 nm结构进行图案化,并在不造成光束损坏的情况下以高分辨率对其表面进行成像。SEM中的STEM还为您提供极为出色的功能,分辨率低至0.4 nm。此外,SEM现可配备STEM断层扫描功能,在弥补与TEM差距的基础上提高了易用性。

操作视频

  • TEM样品制备

    标准工作流程

  • TEM样品制备

    平面视图工作流程

  • TEM样品制备

    背面工作流程


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  • In situ SEM and Raman Investigations on Graphene

    Comparison of graphene, graphene oxideand reduced graphene oxide

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